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在市場(chǎng)硅原材料持續(xù)緊張的背景下,薄膜太陽(yáng)電池已成為光伏市場(chǎng)發(fā)展的新趨勢(shì)和新熱點(diǎn)。與傳統(tǒng)的單晶、多晶硅電池的制備工藝不同,制備大面積的薄膜太陽(yáng)能電池成為可能。
項(xiàng) 目 | 指標(biāo)和說(shuō)明 |
光源 | 150W氙燈光纖輸出,光學(xué)穩(wěn)定度≦0.8%,可工作在斬波模式, |
測(cè)試光斑尺寸 | 3mm~10mm |
單色儀 | 三光柵DSP掃描單色儀 |
波長(zhǎng)范圍 | 300nm~2000nm |
波長(zhǎng)準(zhǔn)確度 | a) ±0.3nm(1200g/mm,300nm) |
b) ±0.6nm(600g/mm,500nm) | |
c) ±0.8nm(300g/mm,1250nm) | |
掃描間隔 | 小可至0.1nm |
輸出波長(zhǎng)帶寬 | <5 nm |
多級(jí)光譜濾除裝置 | 根據(jù)波長(zhǎng)自動(dòng)切換,消除多級(jí)光譜的影響 |
光調(diào)制頻率 | 4 - 400 Hz |
標(biāo)準(zhǔn)探測(cè)器 | 標(biāo)配標(biāo)準(zhǔn)硅探測(cè)器,InGaAs探測(cè)器,含校正報(bào)告 |
偏置光源 | 150W Xenon Lamp 光纖輸出 |
數(shù)據(jù)采集裝置靈敏度 | 直流模式:100nA;交流模式:2nV |
測(cè)量重復(fù)精度 | 對(duì)太陽(yáng)光譜曲線積分重復(fù)性在±1%以內(nèi) |
測(cè)量速度 | 單次光譜響應(yīng)掃描<1min,IPCE完整測(cè)試<5min (步長(zhǎng)5nm) |
X Y 自動(dòng)工作臺(tái) | 300x300mm 或 500x500mm |
單波長(zhǎng) QE Mapping | 速度:20 Point/Second @ 0.5 mm Step |
SCS10-X150-F300 | 150W Xenon arc lamp for probe source, optical stability ≦0.8%, Adjust mechanism: It can easy remove chopper from probe light |
a) ± 0.3nm;1200g/mm, blaze 300nm (1st grating) | |
b) ± 0.6nm;600g/mm, blaze 500nm (2nd grating) | |
c) ± 0.8nm;300g/mm, blaze 1250nm (3rd grating) | |
6 Position Filter Wheel(200-2000nm) | |
DC mode(Data Acquisition System with Pre Amplifier ) | |
AC mode( Lock-In Amplifier ) | |
Chopper | |
Short current preamplifier | |
Calibrated Si Detector | |
Calibrated InGaAs Detector | |
150W Xenon Bias Light Source with fiber output, White bias light source, optical stability ≦0.8%, with 1 inch Filter Wheel | |
XY Stage for QE Uniformity Scanning, 300mm x300mm | |
SCS10-X150-F500 | XY Stage for QE Uniformity Scanning, 500mm x500mm |
SCS10-T150-F300 | 150W Tungsten-Halogen Light Source instead of Xenon 150W Light Source. XY Stage for QE Uniformity Scanning, 500mm x500mm |
SCS10-T150-F500 | 150W Tungsten-Halogen Light Source instead of Xenon 150W Light Source. XY Stage for QE Uniformity Scanning, 500mm x500mm |
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